Equipment

µð¿ø ¼³ºñ´Â Plasma SystemÀ» Àû¿ëÇÏ¿© ÀüÀÚFilmÀÇ Ç¥¸é°³Áú(surface modification) / źȭ¹°ÁúÁ¦°Å(de-smear) /¹Ì¼¼°¡°ø(Etching) / ¼¼Á¤(cleaning)µîÀÇ °øÁ¤À» 1 batch¿¡¼­ ÀÚµ¿À¸·Î ÁøÇàÇϱâ À§ÇÑ Roll To Roll ¹æ½ÄÀÇ MICRO WAVE PLASMA SYSTEMÀÔ´Ï´Ù.